我公司生产的CVD金刚石热沉片是理想的电子散热器件材料,在室温条件下,CVD金刚石的热导率是铜的五倍,可满足多种热学应用,广泛应用于制作激光二级管、激光二极管阵列、大功率半导体器件、微波器件和大规模集成电路的散热片。我们公司生产的CVD金刚石热沉片,其热导率可以达到1200~2000W/K.m,可以进行单面、双面抛光等加工。
项目 |
参数 |
维氏硬度 |
8000~10000 kg/mm² |
热导率 |
1200~2000 W/m.K(300K) |
密度 |
3.51g/cm³ |
杨氏模量 |
1000~1100GPa |
电阻率 |
>1010Ω cm(底面抛光前) |
>106Ω cm(生长面) |
|
热膨胀系数 |
2.3x10-6 ℃-1 |
切割公差 |
≤0.030mm |
注:提供单面或者双面抛光加工,形状和大小都可以按客户要求切割。
|
CVD |
AI |
Cu |
Au |
SiC |
石墨/Cu |
W |
电学性能 |
绝缘体 |
导体 |
导体 |
导体 |
绝缘体 |
导体 |
导体 |
热导率/(W/(cm.K)) |
2000 |
247 |
398 |
315 |
270 |
400 |
155 |
热膨胀系数/(10-6K-1) |
0.8-1.0 |
23 |
17 |
14 |
3.7 |
2.8-3.5 |
4.5 |
密度/(g/cm3) |
3.52 |
2.70 |
8.90 |
19.32 |
3.30 |
5.30 |
19.30 |
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产品介绍
简介:
CVD(Chemical Vapor Deposition化学气相沉淀)金刚石,是含碳气体和氢气的混合物在高温和低于标准大气压的压力下被激发分解,形成活性金刚石碳原子,并在基体上沉积交互生长的多晶金刚石。由于 CVD 金刚石中不含任何金属催化剂,因此它的热稳定性接近天然金刚石。CVD 金刚石晶粒呈无序排列,无脆性解理面,因此呈现各向同性。CVD金刚石广泛被应用在机械、微电子、热学、光学、宇航、军事、医学等领域。我公司主要生产以下几类CVD金刚石产品:CVD金刚石拉丝模芯、CVD金刚石修整器坯料、CVD金刚石刀具坯料、热学级CVD金刚石片、光学级CVD金刚石片等多品级CVD产品。并能够根据用户要求进行切割、抛光等加工。
产品介绍:
我公司生产的CVD金刚石热沉片是理想的电子散热器件材料,在室温条件下,CVD金刚石的热导率是铜的五倍,可满足多种热学应用,广泛应用于制作激光二级管、激光二极管阵列、大功率半导体器件、微波器件和大规模集成电路的散热片。我们公司生产的CVD金刚石热沉片,其热导率可以达到1200~2000W/K.m,可以进行单面、双面抛光等加工。